Image obtenue en Microscopie Electronique à Balayage (MEB) avec les paramètres suivants : grandissement x5kx, HT =15kV et WD = 8mm. Le détecteur d’électrons rétrodiffusés a été utilisé pour réaliser ce cliché. Le matériau est un acier Q&P multiphasé. par Nora KABOU Parution : 20180101
Micrographie d’un acier inoxydable (duplex), obtenue par voie optique (X800), sur un échantillon enrobé, poli puis attaqué à la soude (électrolyte). par Djan KOÇAK Parution : 20180101
Image MEB d’une fractographie de fatigue d’un acier martensitique à très haute résistance au grandissement x 4000 réalisée à partir d’un MEB FEI Nova NanoSEM 450 à émission de champ, la zone d’observation est soumise à une tension d’accélération de 10KV. La distance de travail est de 7,2 mm. par Hayat ABDESSELAM Parution : 20180101
Micrographie obtenue au MEB avec les paramètres suivants : grandissement x3kx, HT = 15kV. Le détecteur d’électrons secondaires a été utilisé pour réaliser ce cliché. Le matériau est un acier FeTiB2 par Gérard PETITGAND Parution : 20180101
Micrographie MEB (JEOL JSM-6400F) en électrons secondaires de la surface d’un acier P91 oxydé à 800°C en deux étapes de 24 heures chacune : la première sous Ar - 1 % H2 - 9 % H216O et la deuxième sous Ar - 1 % H2 - 9 % H218O. Grossissement x1000, tension d’accélération 15 kV, distance de travail 15 mm. par Maria-Rosa ARDIGO-BESNARD Parution : 20180101
